Н 761 Новосядлий, С. П. Багатозарядна радикальна імплантація при формуванні SOI-структур [Текст] / С. П. Новосядлий, В. М. Вівчарук> // Фізика і хімія твердого тіла. - 2008. - Т. 9, № 3. - С. . 659-667. - Бібліогр. : с. 666-667 (11 назв.)
Хімічні елементи--Неметали 3, 4, 6 груп--Телур Хімічні елементи--Елементи 2-ї групи, метали 2-ї групи--Кадмій Кл.слова (ненормовані): Монокремній -- Радикальні іони -- Ізолюючий шар -- Захований ізолюючий шар -- Оксинітрид кремнію -- Спейсерна технологія -- Ретроградна концентрація домішок Дод.точки доступу: Вівчарук, В. М. |