539.23 В 932         Высокоэффективный источник низкотемпературного нанесения пленок и покрытий [Текст] / Л. Осипов [и др.] // Наноиндустрия. - 2010. - № 2. - С. 4-6. - Библиогр. в конце ст. УДК 539.23 Рубрики: Фізика--Фізична природа матерії--Властивості та структура молекулярних систем--Одержання тонких плівок Дод.точки доступу: Осипов, Л.; Руденко, Э.; Семенюк, В.; Короташ, И.; Одиноков, В.; Павлов, Г.; Сологуб, В.